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光谱型参比椭偏仪

型号:Nanofilm_RSE
应用领域:晶圆检测、缺陷检测/污染控制,均质石墨烯薄膜测量,薄膜生长过程控制/动态测量等等

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概论:

椭偏技术对表界面非常敏感,百年来一直被用于各种薄膜的光学分析测量。它的基本原理是,当一束偏振光经过样品表界面反射之后偏振状态会发生变化。并且,如果样品表面是一层薄膜(或者多层薄膜堆叠),整个薄膜/基底的光学系统信息对反射光束的偏振状态都有影响。因此,通过椭偏方法可以对薄膜的厚度和其他性质进行分析。

参比椭偏仪Nanofilm_RSE是一种特殊类型的椭偏仪,它通过将参比样品被和测样品进行比较,测量它们之间的差异从而对被测样品进行椭偏分析。由于参比椭偏仪Nanofilm_RSE光学系统的精巧设计,在测量过程中没有任何需要转动或者调制的光学部件,并且可以在单次测量中获得完整的、高分辨率的光谱椭偏数据。通常每秒钟可以测量获得上百个光谱椭偏数据。通过配备同步的X/Y二维自动样品台可以在数分钟内测量获得大面积样品的薄膜厚度分布图。

 

仪器特点:

该仪器光路设计巧妙、稳定性好、测量精度高。测量速度超快,可快速测量大面积样品厚度分布,适用于质量检测等需要测量大批量样品的领域。参比样品更换简单(三个参比样品组覆盖绝大部分应用)。简单易用,使用者无需对椭偏技术有深入了解。适用于晶圆检测/太阳能电池组分析、缺陷检测/污染控制,均质石墨烯薄膜测量,薄膜生长过程控制/动态测量等等。

 

技术参数:

仪器类型

光谱型参比椭偏仪

入射角

固定60°或者70°

光谱范围

450-900纳米,光谱分辨率1.2纳米

数据速度

每秒100全光谱椭偏数据,连续光谱

光斑尺寸

500x1000微米(入射角60°),其他光斑尺寸可定制

膜厚分辨率

典型为0.1纳米

光源

110毫瓦的超连续谱激光,3B级,脉冲宽度为2纳秒,重复频率为20千赫兹,准直为500微米光束直径,M²= 1.1,Θdiv= 0.2mrad

探测器

2048通道车尔尼-特纳光谱仪,16位,100赫兹

偏振光学器件

高品质的格兰-汤普森棱镜两个,自动,分辨率0.001°

对准

仪器头两轴对准,样品两轴水平对准

X-Y-Z-定位

X/Y方向自动样品台,行程100毫米,最大速度14毫米/秒

仪器头Z方向自动定位,行程40毫米

数据处理

基于LUT的数据处理模拟计算光学参数,如薄膜厚度和色散曲线

软件

简便易用的控制软件,控制各种自动部件、光谱仪和所有的参数测量

建模软件

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